Fotolitografia
Este proceso ha contribuido al desarrollo de sistemas microelectrónicos y nanoelectrónicos, existen varios métodos y técnicas de fabricación, las primeras se utilizan por su bajo nivel de complejidad y costes, son por contacto y proximidad con radiación UV de 1 µm
a 10 µm, sin embargo las exigencias de la industria reemplazarían esta técnica por una que consiste en la fabricación de semiconductores por proyección que mejora la resolución de los patrones internos hasta la escala nanométrica y una considerable mejora en las tasas de producción de semiconductores, ya con el paso del tiempo se han ido mostrando avances en tecnologías relacionadas a la proyección fotolítica y esto en pro de seguir la ley de Moore «El número de transistores en un circuito integrado se duplica cada dos años», dado que en los últimos años se han ido ido presentando avances significativos en estos procesos, la reduccion de precios en los equipos requeridos es elevado, por ende grupos de investigacion pequeños y mediano, poseen un acceso limitado a dichos implementos.
Bibliografia
Realpe, J. J., Bolaños-Pantoja, G., & Flores, J. F. (2018). Diseño e implementación de un sistema de fotolitografía para fabricar microdispositivos a partir de películas delgadas. DYNA, 85(205), 294-301. https://doi.org/10.15446/dyna.v85n205.68837
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